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半導(dǎo)體先進(jìn)制造中液體接觸用PTFE和PFA的比較
半導(dǎo)體制造包括微芯片構(gòu)建中的許多濕法工序。例如,在各種制造工序之間經(jīng)常使用去離子水等液體和各種溶劑來(lái)清潔晶片表面和去除殘留的光刻膠。
在濕法蝕刻工序中,還可以使用其它更具侵蝕性的酸來(lái)幫助形成半導(dǎo)體設(shè)備本身的線和通孔。
在這些濕法工序中,所使用的清洗或蝕刻流體經(jīng)常被加熱以提高其效率。人們開(kāi)發(fā)了用于半導(dǎo)體制造的各種流體加熱器,并且這些加熱器通常使用含氟聚合物來(lái)構(gòu)造接觸液體的部件(即加熱器中實(shí)際與待加熱流體接觸的部分)。
這些應(yīng)用通常使用以下兩種特殊類型的含氟聚合物:聚四氟乙烯(PTFE)和可溶性四氟乙烯(PFA)。當(dāng)批次需求量較少,使用PFA所需的模具分?jǐn)偝杀据^高的時(shí)候,PTFE尤其廣泛地應(yīng)用于泵和閥門和其它接觸液體的部件。本文將考查這兩種材料在半導(dǎo)體流體加熱器接觸液體的表面上使用的適宜性,特別是在制造下一代微芯片中的適宜性。
在先進(jìn)的半導(dǎo)體制造設(shè)備中,設(shè)備的幾何尺寸量級(jí)現(xiàn)已達(dá)到10納米級(jí);而幾家最大的芯片制造商已經(jīng)宣布開(kāi)始7納米技術(shù)節(jié)上的產(chǎn)能爬升。
在這些尺寸量級(jí)下,芯片的電路密度高得令人難以置信。因此導(dǎo)致芯片故障的微粒污染成為一個(gè)主要的問(wèn)題。因而用于制造這些前沿芯片的制造設(shè)備必須采用確保工藝純度的設(shè)計(jì)。雖然PTFE和PFA都是高純度材料,對(duì)腐蝕性化學(xué)品和嚴(yán)苛環(huán)境都具有優(yōu)異的抵抗力,且由于它們的擴(kuò)散系數(shù)低而成為出色的阻擋材料,但在這兩種材料中,PFA更不容易受到污染,因而更適合用于亞10 nm制程中接觸液體的部件。
雖然PTFE和PFA分子結(jié)構(gòu)和性能相似,但它們的加工方式有所不同。值得注意的是, PFA的加工工藝比PTFE的加工工藝成本更高。而工藝順序是這兩種材料哪種更適合半導(dǎo)體芯片制造的關(guān)鍵;下面的段落將會(huì)對(duì)此進(jìn)行介紹。
由于PTFE熔體粘度高,在加熱時(shí),其分子結(jié)構(gòu)將阻止材料流動(dòng)。因此PTFE通常使用多工序加工方式。首先,將粉末狀的PTFE樹(shù)脂倒入模具中,然后在高壓下壓縮。值得注意的是,這些前道工序本身具有將污染物引入PTFE原料的風(fēng)險(xiǎn)。接下來(lái),燒結(jié)PTFE棒料,隨后根據(jù)塊體的形狀和尺寸完成自適應(yīng)冷卻工序。最后,PTFE棒料被加工成合適的形狀,這是另一個(gè)存在污染風(fēng)險(xiǎn)的工序。如果PTFE棒料是干法加工的,那么引入污染物的風(fēng)險(xiǎn)相對(duì)較低。然而,如果PTFE棒料是濕法加工的,污染的風(fēng)險(xiǎn)將變高。
相比之下,PFA的分子結(jié)構(gòu)允許熔融加工,因此PFA可以通過(guò)注塑成型等傳統(tǒng)的單一工序工藝進(jìn)行制造。注塑時(shí),PFA材料會(huì)在的界面表面產(chǎn)生一層表皮,造成幾乎無(wú)法測(cè)量的表面粗糙度。
因此,PFA的加工不需要進(jìn)行任何后加工。加工工序確實(shí)會(huì)影響制造過(guò)程中與半導(dǎo)體工藝化學(xué)品接觸的聚合物的表面光潔度。此外,正如后面的段落將會(huì)進(jìn)行介紹的那樣,接觸液體的部件的表面光潔度是這些部件使用時(shí)排斥(或吸引)潛在污染物的關(guān)鍵。
塑料工業(yè)學(xué)會(huì)(簡(jiǎn)稱為“SPI”)已經(jīng)對(duì)塑料的表面加工及其相應(yīng)的平均粗糙度(簡(jiǎn)稱為“RA”)做了對(duì)應(yīng)。塑料工業(yè)學(xué)會(huì)的發(fā)現(xiàn)如表1所示。
表1:塑料工業(yè)學(xué)會(huì)提供的模具光潔度
表面光潔度 | 塑料工業(yè)學(xué)會(huì)標(biāo)準(zhǔn) | 拋光方法 | 相應(yīng)表面粗糙度 (RA), um |
超高光 | A-1 | #3級(jí),6000粒度砂紙和鉆石膏 | 0.012至0.025 |
高光 | A-2 | #6級(jí),3000粒度砂紙和鉆石膏 | 0.025至0.05 |
標(biāo)準(zhǔn)光潔度 | A-3 | #15級(jí),1200粒度砂紙和鉆石膏 | 0.05至0.10 |
高半光 | B-1 | 600粒度砂紙 | 0.05至0.10 |
中等半光 | B-2 | 400粒度砂紙 | 0.10至0.15 |
標(biāo)準(zhǔn)半光 | B-3 | 320粒度砂紙 | 0.28至0.32 |
高啞光 | C-1 | 600粒度礫石 | 0.35至0.40 |
中等啞光 | C-2 | 400粒度礫石 | 0.45至0.55 |
標(biāo)準(zhǔn)啞光 | C-3 | 320粒度礫石 | 0.63至0.70 |
緞面紋理 | D-1 | 干法噴砂處理的玻璃珠#11 | 0.80至1.00 |
暗紋理 | D-2 | 干法噴砂處理 #240 氧化物 | 1.00至2.80 |
粗糙紋理 | D-3 | 干法噴砂處理 #24氧化物 | 3.20至18.00 |
按機(jī)械加工后的樣子 | - | 機(jī)械師酌情拋光 | 3.2(有明顯的機(jī)械加工痕跡) |
在設(shè)備的幾何量級(jí)不斷降低的背景下,在半導(dǎo)體制造中用作液體接觸表面的材料表面粗糙度隨著人們對(duì)更高純度要求的增加而變得更加關(guān)鍵,這是因?yàn)楸砻娲植诙扰c顆粒生成直接相關(guān)。如表中所示,經(jīng)過(guò)機(jī)加工的塑料,如使用PTFE制造的,通常其平均粗糙度值為3.20RA,相比之下,大多數(shù)注塑成型的,如使用PFA制造的,均符合塑料工業(yè)學(xué)會(huì)的B-1 SPI標(biāo)準(zhǔn)或更高標(biāo)準(zhǔn),典型的表面粗糙度為0.05至0.10μm (B-1)。從而,PFA的光潔度比PTFE同等產(chǎn)品的光潔度高98.4%。
出于所有這些考慮,用于半導(dǎo)體制造的流體加熱器的制造商Heateflex公司和半導(dǎo)體行業(yè)含氟聚合物流體管理解決方案的全球供應(yīng)商圣戈班高純系統(tǒng)業(yè)務(wù)部門決定考查各種PTFE和PFA部件的表面粗糙度。
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